UPDATED. 2024-03-28 14:39 (목)
디에이테크놀로지, 2차전지 설비 장폭 셀 스태킹 개발 완료
디에이테크놀로지, 2차전지 설비 장폭 셀 스태킹 개발 완료
  • 전완수 기자
  • 승인 2020.08.05 15:21
  • 댓글 0
이 기사를 공유합니다

[시사브리핑 전완수 기자] 2차전지 설비 전문 업체 디에이테크놀로지(196490)가 연이은 기술개발에 성공하며 경쟁력을 강화하고 있다.

5일 디에이테크놀로지는 장폭 셀 스태킹 설비 개발에 성공했다고 밝혔다.

개발된 장폭 셀 스태킹은 최고 속도 0.5/sheet에 달하는 설비로 기존 장폭 적층 Z-스태킹 중 최고의 속도를 지니고 있다.

이번 개발은 그동안 지속적으로 발생했던 이매 분리 이슈를 해결하고, 국외 기업의 장폭 셀 증설 계획에 따라 개발이 진행됐다.

이번에 개발된 장폭 셀 스태킹에는 크게 3가지의 신규 기술이 적용됐다. P&P 유닛이 동작하는 동안 매거진 유닛에서 바이브레이션 패드를 통해 이매분리가 진행되는 신규 방식을 차용했다.

아울러 첫 번째 P&P유닛과 두 번째 P&P유닛을 동시에 작동하는 구조로 롱 셀 이송시 택트 타임을 최소화했고, 신규 적층방식을 활용해 셀 무너짐 현상을 완화했다.

최근 디에이에테크놀로지는 지속적으로 기술연구 개발에 힘쓰고 있다. 지난달 2차전지의 와인딩 방식 셀 스택 제조 장치 및 방법에 관한 특허를 취득했으며, 고속 레이저 노칭 장비 개발에도 성공한 바 있다.

디에이테크놀로지 관계자는 “이번 장폭 셀 스태킹 설비 개발에 성공하면서 2차전지 시장에서 당사의 입지가 더욱 강화될 것으로 기대된다”며 “올 하반기에도 국내외 배터리 증설 이슈가 있는 만큼 기술경쟁력을 통해 수주를 확대해 나가겠다”고 말했다.


댓글삭제
삭제한 댓글은 다시 복구할 수 없습니다.
그래도 삭제하시겠습니까?
댓글 0
댓글쓰기
계정을 선택하시면 로그인·계정인증을 통해
댓글을 남기실 수 있습니다.